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“厂家直供氧化铝/氢氧化铝/氢氧化镁/氧化镁 分散剂psi”参数说明
| 是否有现货： | 是 | 认证： | ISO9002 |
| 类型： | 高分子型 | 性质： | 油性分散剂 |
| 形态： | 液态 | 型号： | PSI-500 |
| 规格： | 25kg | 商标： | 英鹤 |
| 包装： | 25kg/桶 | 产量： | 30000 |
“厂家直供氧化铝/氢氧化铝/氢氧化镁/氧化镁 分散剂psi”详细介绍
PSI-500功能分散剂
一、产品描述
氢氧化镁(MH)、氢氧化铝(AH)、滑石粉、高岭土、硅灰石、氧化铝、氧化镁、氧化硅等填料的有机化处理大多采用乙烯基三（甲氧基乙氧基）硅烷（A-172)偶联剂进行处理，它存在许多缺点：
• A-172大量自聚在粉体产生许多不溶性颗粒，包覆效率低；
• 粉体活化率低，活化指数＜30%；
• 有机化粉体的疏水性差，有机化粉体水接触角＜40°，表现出强烈的亲水性；
• 应用于高分子材料中，易于团聚，分散性差；
• 应用于高分子材料中，致使复合材料的力学性能下降；
• 应用于无卤电缆中，体积电导率大幅度下降。
基于A-172硅烷偶联剂的缺陷，我们开发出一类有机杂化硅聚合物新型的功能分散剂以替代A-172，其特点见下表：
PSI-500功能分散剂在无卤阻聚电线电缆应用特点列表
项 目
AH/A-172
MH/A-172
AH/PSI®-500
MH/PSI®-500
疏水性
≤30%
≤20%
≥98%
≥95%
水接触角
＜40°
＜20°
＞120°
＞110°
潮气环境下
体积电阻率（ρD)
30%～40%↓
40%↓
5%↓
5%↓
潮气环境下
介电常数（tan）
↓↓
↓↓
基本不变
基本不变
极限氧指数（LOI）值
不变
不变
7%↑
7%↑
拉伸强度
15%↓
15%↓
15%↑
15%↑
断裂伸长率
10%↓
10%↓
10%↑
10%↑
备注：MH/A-172 ：乙烯基硅烷处理氢氧化镁
AH/172 ：乙烯基硅烷处理氢氧化铝
MH/PSI-500分散剂 ：以PSI®-500分散剂处理氢氧化镁
AH/PSI-500分散剂 ：以PSI®-500分散剂处理氢氧化铝
↓ ：下降
一、产品描述
氢氧化镁(MH)、氢氧化铝(AH)、滑石粉、高岭土、硅灰石、氧化铝、氧化镁、氧化硅等填料的有机化处理大多采用乙烯基三（甲氧基乙氧基）硅烷（A-172)偶联剂进行处理，它存在许多缺点：
• A-172大量自聚在粉体产生许多不溶性颗粒，包覆效率低；
• 粉体活化率低，活化指数＜30%；
• 有机化粉体的疏水性差，有机化粉体水接触角＜40°，表现出强烈的亲水性；
• 应用于高分子材料中，易于团聚，分散性差；
• 应用于高分子材料中，致使复合材料的力学性能下降；
• 应用于无卤电缆中，体积电导率大幅度下降。
基于A-172硅烷偶联剂的缺陷，我们开发出一类有机杂化硅聚合物新型的功能分散剂以替代A-172，其特点见下表：
PSI-500功能分散剂在无卤阻聚电线电缆应用特点列表
项 目
AH/A-172
MH/A-172
AH/PSI®-500
MH/PSI®-500
疏水性
≤30%
≤20%
≥98%
≥95%
水接触角
＜40°
＜20°
＞120°
＞110°
潮气环境下
体积电阻率（ρD)
30%～40%↓
40%↓
5%↓
5%↓
潮气环境下
介电常数（tan）
↓↓
↓↓
基本不变
基本不变
极限氧指数（LOI）值
不变
不变
7%↑
7%↑
拉伸强度
15%↓
15%↓
15%↑
15%↑
断裂伸长率
10%↓
10%↓
10%↑
10%↑
备注：MH/A-172 ：乙烯基硅烷处理氢氧化镁
AH/172 ：乙烯基硅烷处理氢氧化铝
MH/PSI-500分散剂 ：以PSI®-500分散剂处理氢氧化镁
AH/PSI-500分散剂 ：以PSI®-500分散剂处理氢氧化铝
↓ ：下降